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Micromachines

微型機(jī)器
國(guó)際簡(jiǎn)稱(chēng)：MICROMACHINES-BASEL

Micromachines

SCIE

按雜志級(jí)別劃分： 中科院1區(qū) 中科院2區(qū) 中科院3區(qū) 中科院4區(qū)

  • 3區(qū) 中科院分區(qū)
  • Q2 JCR分區(qū)
  • 2215 年發(fā)文量
  • 90.84% 研究類(lèi)文章占比
  • 99.70% Gold OA文章占比
ISSN：2072-666X
創(chuàng)刊時(shí)間：2010
是否預(yù)警：否
E-ISSN：2072-666X
出版地區(qū)：SWITZERLAND
是否OA：開(kāi)放
出版語(yǔ)言：English
出版周期：12 issues/year
影響因子：3
出版商：MDPI (Basel, Switzerland)
審稿周期：約16.31天 11 Weeks
CiteScore：5.2
H-index：27
出版國(guó)人文章占比：0.31
開(kāi)源占比：0.9949
文章自引率：0.1470...

Micromachines雜志簡(jiǎn)介

Micromachines是由MDPI (Basel, Switzerland)出版商主辦的工程技術(shù)領(lǐng)域的專(zhuān)業(yè)學(xué)術(shù)期刊，自2010年創(chuàng)刊以來(lái)，一直以高質(zhì)量的內(nèi)容贏得業(yè)界的尊重。該期刊擁有正式的刊號(hào)（ISSN：2072-666X，E-ISSN：2072-666X），出版周期12 issues/year，其出版地區(qū)設(shè)在SWITZERLAND。該期刊的核心使命旨在推動(dòng)工程技術(shù)專(zhuān)業(yè)及CHEMISTRY, ANALYTICAL學(xué)科界的教育研究與實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)的交流，發(fā)表同行有創(chuàng)見(jiàn)的學(xué)術(shù)論文，提倡學(xué)術(shù)爭(zhēng)鳴，激發(fā)學(xué)術(shù)創(chuàng)新，開(kāi)展國(guó)際間學(xué)術(shù)交流，為工程技術(shù)領(lǐng)域的發(fā)展注入活力。

該期刊文章自引率0.1470...，開(kāi)源內(nèi)容占比0.9949，出版撤稿占比0，OA被引用占比1，讀者群體主要包括工程技術(shù)的專(zhuān)業(yè)人員，研究生、本科生以及工程技術(shù)領(lǐng)域愛(ài)好者，這些讀者群體來(lái)自全球各地，具有廣泛的學(xué)術(shù)背景和興趣。Micromachines已被國(guó)際權(quán)威學(xué)術(shù)數(shù)據(jù)庫(kù)“ SCIE（Science Citation Index Expanded） ”收錄，方便全球范圍內(nèi)的學(xué)者和研究人員檢索和引用，有助于推動(dòng)CHEMISTRY, ANALYTICAL領(lǐng)域的研究進(jìn)展和創(chuàng)新發(fā)展。

CiteScore（2024年最新版）

  • CiteScore：5.2
  • SJR：0.549
  • SNIP：0.9
學(xué)科類(lèi)別 分區(qū) 排名 百分位
大類(lèi)：Engineering 小類(lèi)：Mechanical Engineering Q2 174 / 672

74%
大類(lèi)：Engineering 小類(lèi)：Control and Systems Engineering Q2 96 / 321

70%
大類(lèi)：Engineering 小類(lèi)：Electrical and Electronic Engineering Q2 252 / 797

68%

CiteScore: 這一創(chuàng)新指標(biāo)力求提供更為全面且精確的期刊評(píng)估，打破了過(guò)去僅依賴(lài)單一指標(biāo)如影響因子的局限。它通過(guò)綜合廣泛的引用數(shù)據(jù)，跨越多個(gè)學(xué)科領(lǐng)域，從而確保了更高的透明度和開(kāi)放性。作為Scopus中一系列期刊指標(biāo)的重要組成部分，包括SNIP（源文檔標(biāo)準(zhǔn)化影響）、SJR（SCImago雜志排名）、引用文檔計(jì)數(shù)以及引用百分比。Scopus整合以上指標(biāo)，幫助研究者深入了解超過(guò)22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個(gè)指標(biāo)的詳細(xì)信息。

CiteScore分區(qū)值與影響因子值數(shù)據(jù)對(duì)比

Micromachines中科院分區(qū)表

中科院分區(qū) 2023年12月升級(jí)版
大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) CHEMISTRY, ANALYTICAL 分析化學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2022年12月升級(jí)版
大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) CHEMISTRY, ANALYTICAL 分析化學(xué) INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級(jí)版
大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) CHEMISTRY, ANALYTICAL 分析化學(xué) INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2021年12月基礎(chǔ)版
大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) CHEMISTRY, ANALYTICAL 分析化學(xué) INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) 3區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2021年12月升級(jí)版
大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) CHEMISTRY, ANALYTICAL 分析化學(xué) INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級(jí)版
大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 3區(qū) 4區(qū) 否 否
中科院分區(qū)表歷年分布趨勢(shì)圖

WOS期刊JCR分區(qū)（2023-2024年最新版）

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科：CHEMISTRY, ANALYTICAL SCIE Q2 41 / 106

61.8%
學(xué)科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION SCIE Q2 26 / 76

66.4%
學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q3 84 / 140

40.4%
學(xué)科：PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 67 / 179

62.8%
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科：CHEMISTRY, ANALYTICAL SCIE Q2 52 / 106

51.42%
學(xué)科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION SCIE Q2 32 / 76

58.55%
學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q2 67 / 140

52.5%
學(xué)科：PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 74 / 179

58.94%

JCR（Journal Citation Reports）分區(qū)，也被稱(chēng)為JCR期刊分區(qū)，是由湯森路透公司（現(xiàn)在屬于科睿唯安公司）制定的一種國(guó)際通用和公認(rèn)的期刊分區(qū)標(biāo)準(zhǔn)。JCR分區(qū)基于SCI數(shù)據(jù)庫(kù)，按照期刊的影響因子進(jìn)行排序，按照類(lèi)似等分的方式將期刊劃分為四個(gè)區(qū)：Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是，JCR分區(qū)的標(biāo)準(zhǔn)與中科院JCR期刊分區(qū)（又稱(chēng)分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù)）存在不同之處。例如，兩者的分區(qū)數(shù)量不同，JCR分為四個(gè)區(qū)，而中科院分區(qū)則分為176個(gè)學(xué)科，每個(gè)學(xué)科又按照影響因子高低分為四個(gè)區(qū)。此外，兩者的影響因子取值范圍也存在差異。

歷年發(fā)文數(shù)據(jù)

年份 年發(fā)文量
2014 90
2015 137
2016 232
2017 353
2018 662
2019 856
2020 1094
2021 1541
2022 2220
2023 2215

期刊互引關(guān)系

被他刊引用情況
期刊名稱(chēng) 引用次數(shù)
MICROMACHINES-BASEL 935
SENSORS-BASEL 170
MATERIALS 82
J MICROMECH MICROENG 65
APPL SCI-BASEL 61
LAB CHIP 55
SCI REP-UK 53
SENSOR ACTUAT A-PHYS 50
SENSOR ACTUAT B-CHEM 50
MICROFLUID NANOFLUID 46
引用他刊情況
期刊名稱(chēng) 引用次數(shù)
LAB CHIP 1317
MICROMACHINES-BASEL 935
APPL PHYS LETT 745
ANAL CHEM 521
J MICROMECH MICROENG 509
SENSOR ACTUAT A-PHYS 495
SCI REP-UK 488
SENSOR ACTUAT B-CHEM 425
OPT EXPRESS 416
ADV MATER 370
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