光學和激光技術
國際簡稱:OPT LASER TECHNOL
Optics And Laser Technology是由Elsevier Ltd出版商主辦的物理與天體物理領域的專業(yè)學術期刊,自1968年創(chuàng)刊以來,一直以高質(zhì)量的內(nèi)容贏得業(yè)界的尊重。該期刊擁有正式的刊號(ISSN:0030-3992,E-ISSN:1879-2545),出版周期Bimonthly,其出版地區(qū)設在ENGLAND。該期刊的核心使命旨在推動物理與天體物理專業(yè)及OPTICS學科界的教育研究與實踐經(jīng)驗的交流,發(fā)表同行有創(chuàng)見的學術論文,提倡學術爭鳴,激發(fā)學術創(chuàng)新,開展國際間學術交流,為物理與天體物理領域的發(fā)展注入活力。
該期刊文章自引率0.1,開源內(nèi)容占比0.0318,出版撤稿占比0,OA被引用占比0.0115...,讀者群體主要包括物理與天體物理的專業(yè)人員,研究生、本科生以及物理與天體物理領域愛好者,這些讀者群體來自全球各地,具有廣泛的學術背景和興趣。Optics And Laser Technology已被國際權威學術數(shù)據(jù)庫“ SCIE(Science Citation Index Expanded) ”收錄,方便全球范圍內(nèi)的學者和研究人員檢索和引用,有助于推動OPTICS領域的研究進展和創(chuàng)新發(fā)展。
學科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering | Q1 | 102 / 738 |
86% |
大類:Engineering 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials | Q1 | 45 / 271 |
83% |
大類:Engineering 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics | Q1 | 36 / 211 |
83% |
CiteScore: 這一創(chuàng)新指標力求提供更為全面且精確的期刊評估,打破了過去僅依賴單一指標如影響因子的局限。它通過綜合廣泛的引用數(shù)據(jù),跨越多個學科領域,從而確保了更高的透明度和開放性。作為Scopus中一系列期刊指標的重要組成部分,包括SNIP(源文檔標準化影響)、SJR(SCImago雜志排名)、引用文檔計數(shù)以及引用百分比。Scopus整合以上指標,幫助研究者深入了解超過22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個指標的詳細信息。
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 2區(qū) | OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 2區(qū) 2區(qū) | 是 | 否 |
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 2區(qū) | OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 2區(qū) 2區(qū) | 否 | 否 |
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 2區(qū) | OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 2區(qū) 2區(qū) | 否 | 否 |
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理 | 2區(qū) | OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 2區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 2區(qū) | OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 2區(qū) 2區(qū) | 否 | 否 |
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 2區(qū) | OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 2區(qū) 2區(qū) | 否 | 否 |
按JIF指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學科:OPTICS | SCIE | Q1 | 21 / 119 |
82.8% |
學科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 45 / 179 |
75.1% |
按JCI指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學科:OPTICS | SCIE | Q1 | 20 / 120 |
83.75% |
學科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q1 | 29 / 179 |
84.08% |
JCR(Journal Citation Reports)分區(qū),也被稱為JCR期刊分區(qū),是由湯森路透公司(現(xiàn)在屬于科睿唯安公司)制定的一種國際通用和公認的期刊分區(qū)標準。JCR分區(qū)基于SCI數(shù)據(jù)庫,按照期刊的影響因子進行排序,按照類似等分的方式將期刊劃分為四個區(qū):Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是,JCR分區(qū)的標準與中科院JCR期刊分區(qū)(又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))存在不同之處。例如,兩者的分區(qū)數(shù)量不同,JCR分為四個區(qū),而中科院分區(qū)則分為176個學科,每個學科又按照影響因子高低分為四個區(qū)。此外,兩者的影響因子取值范圍也存在差異。
年份 | 年發(fā)文量 |
2014 | 313 |
2015 | 293 |
2016 | 294 |
2017 | 386 |
2018 | 583 |
2019 | 736 |
2020 | 631 |
2021 | 1022 |
2022 | 1143 |
2023 | 1281 |
被他刊引用情況 | |
期刊名稱 | 引用次數(shù) |
OPT LASER TECHNOL | 891 |
OPTIK | 410 |
OPT EXPRESS | 222 |
MATER RES EXPRESS | 220 |
APPL OPTICS | 188 |
INT J ADV MANUF TECH | 179 |
MATERIALS | 156 |
SENSORS-BASEL | 155 |
OPT COMMUN | 153 |
IEEE ACCESS | 140 |
引用他刊情況 | |
期刊名稱 | 引用次數(shù) |
OPT EXPRESS | 1140 |
OPT LASER TECHNOL | 891 |
OPT LETT | 791 |
APPL OPTICS | 546 |
APPL PHYS LETT | 444 |
OPT COMMUN | 424 |
APPL SURF SCI | 403 |
J MATER PROCESS TECH | 372 |
MAT SCI ENG A-STRUCT | 341 |
MATER DESIGN | 324 |
輻射探測技術與方法
中科院分區(qū):4區(qū)
激光與光電子學進展
中科院分區(qū):4區(qū)
Chinese Journal Of Lasers-zhongguo Jiguang
中科院分區(qū):4區(qū)
天體動力學
中科院分區(qū):1區(qū)
中國科學:物理學 力學 天文學
中科院分區(qū):4區(qū)